Заказать мероприятие
Отправляя данные, я подтверждаю, что ознакомилась/ознакомился с Политикой в отношении обработки персональных данных, принимаю её условия и предоставляю ООО «РИА «Стандарты и качество» Согласие на обработку персональных данных.
Отправляя данные, я подтверждаю, что ознакомилась/ознакомился с Политикой в отношении обработки персональных данных, принимаю её условия и предоставляю ООО «РИА «Стандарты и качество» Согласие на обработку персональных данных.
Отправляя данные, я подтверждаю, что ознакомилась/ознакомился с Политикой в отношении обработки персональных данных, принимаю её условия и предоставляю ООО «РИА «Стандарты и качество» Согласие на обработку персональных данных.
Для приобретения подписки для абонементного доступа к статьям, вам необходимо зарегистрироваться
После регистрации вы получите доступ к личному кабинету
Зарегистрироваться Войти
В статье рассмотрены возможности методов атомно-силовой микроскопии и рентгеновского рассеяния для анализа шероховатости плоских поверхностей на субнанометровом уровне. Продемонстрированы достоинства обоих методов и показана перспективность их совместного использования.
Ключевые слова: микроэлектроника; нанокристаллы; обработка поверхностей подложек; параметры шероховатости; атомно-силовая микроскопия; рентгеновское рассеяние
Авторы:
Асадчиков Виктор Евгеньевич, Кожевников Игорь Викторович, Рощин Борис Сергеевич, Волков Юрий Олегович, Муслимов Арсен Эмирбегович, Каневский Владимир Михайлович
Институт кристаллографии РАН, Москва
Занавескин Максим Леонидович
НИЦ «Курчатовский институт», Москва
Подписка
Всероссийская организация качества
